产品描述

氮化锆(ZrN) 陶瓷靶材

氮化物陶瓷溅射靶材

Aluminum Nitride , AlN target                       Boron Nitride, BN target    

Hafnium Nitride, HfN target                         Niobium Niride , NbN target       

Silicom Nitride , Si3N4 target                        Tantalum Nitride , TaN target       

Titanium Carbon nitride , TiCN target                 Titanium Nitride, TiN target      

Vanadium Nitride , VN target                        Zirconium Nitride , ZrN target

我公司的真空热压、热等静压、冷等静压等工艺下生产的各种高纯靶材材料, 通过精密的机加工, 具有高纯度、高密度、 表面光滑平整 (RA16/32/64)、 结晶粒度均匀的优势。

靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆棒，台阶圆片，台阶矩形，三角形，管状靶，套靶等或按客户要求订做，可根据客户提供的图纸要求加工. 并可以为客户提供部分靶材的邦定服务.
参考尺寸:直径 ≦355.6mm (14英寸) ,长度≦1000mm ,宽度≦200mm ,厚度≦20mm

产品说明︰ 溅射镀膜，蒸发材料, 用于制备金属锆和氧化锆。也用于制造热压坩埚,炼制金属铝、铋、镉、铅、锡和作为贮酸容器。