二硫化钨(WS2) 陶瓷靶材
我公司的真空热压、热等静压、冷等静压等工艺下生产的各种高纯靶材材料, 通过精密的机加工, 具有高纯度、高密度、 表面光滑平整 (RA16/32/64)、 结晶粒度均匀的优势。
靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆棒，台阶圆片，台阶矩形，三角形，管状靶，套靶等或按客户要求订做，可根据客户提供的图纸要求加工. 并可以为客户提供部分靶材的邦定服务.
参考尺寸:直径 ≦355.6mm (14英寸) ,长度≦1000mm ,宽度≦200mm ,厚度≦20mm
Sulfide Ceramic sputtering target 硫化物陶瓷溅射靶材
Cadmium Sulfide , CdS target Copper Sulfide, CuS,Cu2S target
Indium Sulfide , In2S3 target Iron Sulfide, FeS, FeS2 target
Lead Sulfide , PbS target Manganese Sulfide, MnS2 target
Molybdenum Sulfide , MoS2 target Niobium Sulfide , NbS2 target
Silver Sulfide , AgS. Ag2S target Tantalum Suflfide , TaS2 target
Tin Sulfide , SnS, SnS2 target Tungsten Sulfide , WS2 target
Zinc Sulfide , ZnS target
产品说明︰ 溅射镀膜，蒸发材料, 一种新型固体润滑剂,适用于高温、高压、高负荷和高真空条件下的润滑。添加在工程塑料中做成自润滑元件,或与某些挥发性溶剂混合后, 喷涂于金属表面,在冲锻中用以提高模具的寿命和工件的光洁度。
