惠州天亿可以提供的关于氧化铟锡ITO的产品有:
氧化铟锡ITO 各种比例，通常为In2O3/SnO2=90/10wt, 95/5wt%这二种，也可以订制做其它掺杂比例的，比如In2O3/SnO2=50/50wt，In2O3/SnO2=60/40wt等等
氧化铟锡ITO粉, 纯度:99.99%, 粒度<10微米,-325目或订制
氧化铟锡ITO溅射靶材, 纯度:99.99%, 尺寸:直径 355.6mm (14英寸) ,长度 (250mm) ,宽度 (200mm) ,厚度 (20mm), 形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆管，台阶圆片，台阶矩形，其他客户订制
氧化铟锡ITO蒸发镀膜材料, 纯度:99.99%, 规格: 8 x 6, 10 x 8, 1-10mm或定制.
氧化铟锡ITO通常质量比为90% In2O3，10% SnO2。它在薄膜状时，为透明无色。在块状态时，它呈黄偏灰色。熔点：1500-1900度，密度：7.12-7.16g/cm3
氧化铟锡主要的特性是其电学传导和光学透明的组合。然而，薄膜沉积中需要作出妥协，因为高浓度电荷载流子将会增加材料的电导率，但会降低它的透明度。
氧化铟锡薄膜最通常是用电子束蒸发、物理气相沉积、或者一些溅射沉积技术的方法沉积到表面
用途：
ITO主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸等应用、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。
ITO也被用于各种光学镀膜，最值得注意的有建筑学中红外线-反射镀膜(热镜)、汽车、还有钠蒸汽灯玻璃等。别的应用包括气体传感器、抗反射膜、和用于VCSEL激光器的布拉格反射器
产品说明︰ 溅射靶材，蒸发镀膜材料
