氮化硅(Si3N4) 陶瓷靶材,蒸發鍍膜材料
氮化物陶瓷濺射靶材
Aluminum Nitride , AlN target Boron Nitride, BN target
Hafnium Nitride, HfN target Niobium Niride , NbN target
Silicom Nitride , Si3N4 target Tantalum Nitride , TaN target
Titanium Carbon nitride , TiCN target Titanium Nitride, TiN target
Vanadium Nitride , VN target Zirconium Nitride , ZrN target
我公司的真空熱壓、熱等靜壓、冷等靜壓等工藝下生產的各種高純靶材材料, 通過精密的機加工, 具有高純度、高密度、 表面光滑平整 (RA16/32/64)、 結晶粒度均勻的優勢。
靶材形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環，圓棒，臺階圓片，臺階矩形，三角形，管狀靶，套靶等或按客戶要求訂做，可根據客戶提供的圖紙要求加工. 並可以為客戶提供部分靶材的邦定服務.
參考尺寸:直徑 ≦355.6mm (14英吋) ,長度≦1000mm ,寬度≦200mm ,厚度≦20mm
產品說明︰ 氮化硅(Si3N4) 陶瓷靶材,蒸發鍍膜材料
