硼化鈦 TiB2濺射靶材，蒸發鍍膜材料，二硼化鈦粉
我公司的真空熱壓、熱等靜壓、冷等靜壓等工藝下生產的各種高純靶材材料, 通過精密的機加工, 具有高純度、高密度、 表面光滑平整 (RA16/32/64)、 結晶粒度均勻的優勢。
靶材形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環，圓棒，臺階圓片，臺階矩形，三角形，管狀靶，套靶等或按客戶要求訂做，可根據客戶提供的圖紙要求加工. 並可以為客戶提供部分靶材的邦定服務.
參考尺寸:直徑 ≦355.6mm (14英吋) ,長度≦1000mm ,寬度≦200mm ,厚度≦20mm
硼化物陶瓷濺射靶材
Chromium Boride , Cr2B, CrB2, CrB, Cr5B3 target Hafnium Boride , HfB2 target
Iron Boride , FeB target Lanthanum Boride , LaB6 target
Molybdenum Boride , Mo2B, Mo2B5 target Neodymium Boride , NdB, NdB2 target
Tantalum Boride , TaB, TaB2 target Titanium Boride, TiB2 target
Tungsten Boride , WB, WB2, W2B5 target Vanadium Boride , VB, VB2 target
Zirconium Boride , ZrB2 target
產品說明︰ 濺射鍍膜，蒸發材料, 用作火箭噴管、電器觸頭、電極材料等。
產品類別︰ 濺射靶材陶瓷靶材蒸發鍍膜材料硼化鈦
