產品描述

氮化鋯(ZrN) 陶瓷靶材

氮化物陶瓷濺射靶材

Aluminum Nitride , AlN target                       Boron Nitride, BN target    

Hafnium Nitride, HfN target                         Niobium Niride , NbN target       

Silicom Nitride , Si3N4 target                        Tantalum Nitride , TaN target       

Titanium Carbon nitride , TiCN target                 Titanium Nitride, TiN target      

Vanadium Nitride , VN target                        Zirconium Nitride , ZrN target

我公司的真空熱壓、熱等靜壓、冷等靜壓等工藝下生產的各種高純靶材材料, 通過精密的機加工, 具有高純度、高密度、 表面光滑平整 (RA16/32/64)、 結晶粒度均勻的優勢。

靶材形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環，圓棒，臺階圓片，臺階矩形，三角形，管狀靶，套靶等或按客戶要求訂做，可根據客戶提供的圖紙要求加工. 並可以為客戶提供部分靶材的邦定服務.
參考尺寸:直徑 ≦355.6mm (14英吋) ,長度≦1000mm ,寬度≦200mm ,厚度≦20mm

產品說明︰ 濺射鍍膜，蒸發材料, 用於制備金屬鋯和氧化鋯。也用於製造熱壓坩堝,煉製金屬鋁、鉍、鎘、鉛、錫和作為貯酸容器。