硫化鉬(MoS2) 陶瓷靶材
我公司的真空熱壓、熱等靜壓、冷等靜壓等工藝下生產的各種高純靶材材料, 通過精密的機加工, 具有高純度、高密度、 表面光滑平整 (RA16/32/64)、 結晶粒度均勻的優勢。
靶材形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環，圓棒，臺階圓片，臺階矩形，三角形，管狀靶，套靶等或按客戶要求訂做，可根據客戶提供的圖紙要求加工. 並可以為客戶提供部分靶材的邦定服務.
參考尺寸:直徑 ≦355.6mm (14英吋) ,長度≦1000mm ,寬度≦200mm ,厚度≦20mm
Sulfide Ceramic sputtering target 硫化物陶瓷濺射靶材
Cadmium Sulfide , CdS target Copper Sulfide, CuS,Cu2S target
Indium Sulfide , In2S3 target Iron Sulfide, FeS, FeS2 target
Lead Sulfide , PbS target Manganese Sulfide, MnS2 target
Molybdenum Sulfide , MoS2 target Niobium Sulfide , NbS2 target
Silver Sulfide , AgS. Ag2S target Tantalum Suflfide , TaS2 target
Tin Sulfide , SnS, SnS2 target Tungsten Sulfide , WS2 target
Zinc Sulfide , ZnS target
產品說明︰ 濺射靶材，二硫化鉬是重要的固體潤滑劑，特別適用於高溫高壓下。它還有抗磁性，可用作線性光電導體和顯示P型或N型導電性能的半導體，具有整流和換能的作用。二硫化鉬還可用作複雜烴類脫氫的催化劑。
