氮化鉿HfN陶瓷靶材

氮化鉿濺射靶材，蒸發鍍膜材料，氮化鉿粉 Hafnium nitride, 分子式: HfN

性質：灰色粉末，立方晶結構。熔點3310℃，顯微硬度16GPa。相當穩定，但易為王水、濃硫酸、氟氫酸所腐蝕。由鉿和氮在900℃直接反應生成，或由鉿鹵化物和氨或氮和氫混合氣體反應制取。為重要難熔化合物鉿合金的重要組分
屬過渡金屬的氮化物, 氮化鉿的熔點在氮化物中 ，硬度較高，但較易氧化，應用很少, 用於熱噴塗材料的時候, 宜採用真空等離子噴塗工藝噴塗塗層，以保持氮化物塗層的氮含量和相組成不變。

惠州天億可以提供的關於HfN的產品有:

高純氮化鉿HfN粉, 純度:99.5%, 粒度<10微米或訂製

高純氮化鉿HfN濺射靶材, 純度:99.5%, 尺寸:直徑 355.6mm (14英吋) ,長度 (250mm) ,寬度 (200mm) ,厚度 (20mm), 形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環，圓管，臺階圓片，臺階矩形，其他客戶訂製

高純氮化鉿HfN蒸發鍍膜材料, 純度:99.5%, 規格1-10mm或定製


本公司大量供應HfO2(氧化鉿），HfB2(硼化鉿），HfN(氮化鉿）,HfC(碳化鉿),
產品質量有保証,歡迎廣大客戶來電垂詢.量大從優