氧化銦In2O3濺射靶材，蒸發鍍膜材料

氧化銦，In2O3 CAS: 1312-43-2 

惠州天億可以提供的關於氧化銦 In2O3的產品有:

氧化銦 In2O3粉, 純度:99.99%, 粒度<10微米,-325目或訂製

氧化銦 In2O3濺射靶材, 純度:99.99%, 尺寸:直徑 355.6mm (14英吋) ,長度 (250mm) ,寬度 (200mm) ,厚度 (20mm), 形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環，圓管，臺階圓片，臺階矩形，其他客戶訂製

氧化銦 In2O3蒸發鍍膜材料, 純度:99.99%, 規格: 8 x 6, 10 x 8, 1-10mm或定製. 

氧化銦摻雜濺射靶材, 純度:99.99%, In2O3-SnO2氧化銦錫ITO，In2O3-Ga2O3氧化銦-氧化鎵 IGO，In2O3-ZnO-Ga2O3 氧化銦-氧化鋅-氧化鎵 IZGO, ZnO-In2O3氧化鋅摻氧化銦 ZIO等等

三氧化二銦In2O3, 外觀：淺黃色粉末, 分子量：277.6342， 熔點1910℃，相對密度7.179g/cm3，不溶于水、氫氧化鈉。無定形易溶于酸，晶形則不溶。700～800℃時易為氫、碳、鉛等還原生成金屬銦和易揮發的氧化二銦。將金屬銦在空氣中燃燒或由氫氧化物、硝酸鹽或碳酸鹽加熱制得。

用途：

電阻式觸摸屏中經常使用的原材料，主要用於熒光屏、玻璃、陶瓷、化學試劑等。

另外，廣氾應用於有色玻璃、陶瓷、碱錳電池代汞緩蝕劉、化學試劑等傳統領域。近年來大量應用於光電行業等高新技術領域和軍事領域，特別適用於加工為銦錫氧化物(ITO)靶材，製造透明電極和透明熱反射體材料，用於生產平面液晶顯示器和除霧冰器。