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高純氧化鉿粉,靶材,蒸發材料
型號︰
HfO2
原產地︰
中國
單價︰
CNY ¥ 2000 / 片
最少訂量︰
1 片
產品描述
中文名稱:氧化鉿 HfO2英文名稱:Hafnium oxide
CAS: 12055-23-1
惠州天億可以提供的關於氧化鉿HfO2的產品有:
高純氧化鉿HfO2粉, 純度:99.95%,99.99%, 粒度<10微米,-325目或訂製
高純氧化鉿HfO2濺射靶材, 純度:99.95%,99.99%, 尺寸:直徑 355.6mm (14英吋) ,長度 (250mm) ,寬度 (200mm) ,厚度 (20mm), 形狀:板材,圓片,矩形,方形,圓環,圓管,臺階圓片,臺階矩形,其他客戶訂製
高純氧化鉿HfO2蒸發鍍膜材料, 純度:99.95%,99.99%, 規格: 8 x 6, 10 x 8, 1-10mm或定製.
薄膜特性:透光範圍~220~12000nm;折射率(250nm)~2.15 (500nm)~2
蒸發條件:用電子槍,氧分壓~1~2×10-2Pa。蒸發溫度~2600~2800℃,基片溫度~250℃,蒸發速率2nm/s
二氧化鉿(HfO₂)是一種具有寬帶隙和高介電常數的陶瓷材料,近來在工業界特別是微電子領域被引起極度的關注,由於它最可能替代目前硅基集成電路的核心器件金屬氧化物半導體場效應管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO₂),以解決目前MOSFET中傳統SiO₂/Si結構的發展的尺寸極限問題.
白色或灰色粉末。不溶于水、鹽酸和硝酸和其他一般無機酸,可溶于濃硫酸和氟氫酸. 當加熱到高溫時鉿與氧直接化合生成氧化鉿, 也可由硫酸鉿、氯氧化鉿等化合物熱分解或水解制取。在氫氟酸中緩慢溶解生成氟鉿酸鹽。與熱濃硫酸或硫酸氫鹽作用生成硫酸鉿。與碳在氯氣存在下混合加熱得到四氯化鉿。與氟硅酸鉀作用生成氟鉿酸鉀。與碳在1500℃以上反應得碳化鉿(HfC)。是一種具有寬帶隙(~6eV)和高介電常數的陶瓷材料。
二氧化鉿(HfO₂)有四方、單斜和三方三種晶形。單斜晶系的二氧化鉿在1475~1600℃的足量氧氣氛中轉化為四方晶系, 為生產金屬鉿和鉿合金的原料。
密度:9.68g/cm3, 熔點:2850℃, 摩爾質量:210.49 g/mol
蒸發壓力:在2678℃時1Pa;在2875℃時10Pa,線膨脹係數:5.6×10-6/K.
用途: 應用領域:UV增透膜,干涉膜, 用作耐火耐熔材料、抗放射性塗料和催化劑及光譜分析。
產品說明︰
粉末, 靶材, 蒸發材料