氮化铪HfN陶瓷靶材

氮化铪溅射靶材，蒸发镀膜材料，氮化铪粉 Hafnium nitride, 分子式: HfN

性质：灰色粉末，立方晶结构。熔点3310℃，显微硬度16GPa。相当稳定，但易为王水、浓硫酸、氟氢酸所腐蚀。由铪和氮在900℃直接反应生成，或由铪卤化物和氨或氮和氢混合气体反应制取。为重要难熔化合物铪合金的重要组分
属过渡金属的氮化物, 氮化铪的熔点在氮化物中 ，硬度较高，但较易氧化，应用很少, 用于热喷涂材料的时候, 宜采用真空等离子喷涂工艺喷涂涂层，以保持氮化物涂层的氮含量和相组成不变。

惠州天亿可以提供的关于HfN的产品有:

高纯氮化铪HfN粉, 纯度:99.5%, 粒度<10微米或订制

高纯氮化铪HfN溅射靶材, 纯度:99.5%, 尺寸:直径 355.6mm (14英寸) ,长度 (250mm) ,宽度 (200mm) ,厚度 (20mm), 形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆管，台阶圆片，台阶矩形，其他客户订制

高纯氮化铪HfN蒸发镀膜材料, 纯度:99.5%, 规格1-10mm或定制


本公司大量供应HfO2(氧化铪），HfB2(硼化铪），HfN(氮化铪）,HfC(碳化铪),
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