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产品目录

• 溅射靶材
• 金属靶材
• 金属锆靶材,蒸发料
• 高纯金属钛
• 用于实验室 金属锡靶材
• 金属钒靶材
• 金属铌靶材
• 金属锰溅射靶材，蒸发镀膜材料
• 金属铟锭,粉,溅射靶材,蒸发镀膜材料
• 石墨碳，C
• 金属钨W靶材
• 高纯金属碲粉, 靶材,蒸发材料
• 金属硒溅射靶材
• 金属铼溅射靶材
• 金属镍 (Ni) 靶材及蒸发料
• 金属钼靶材
• 金属铬Cr溅射靶材, 蒸发材料
• 金属钴溅射靶材
• 金属铋 Bi溅射靶材, 蒸发镀膜材料
• 高纯硼粉,靶材
• 金属钌Ru靶材
• 用于实验研究 金属锑靶材
• 金属铝靶材,蒸发材料
• 14"不掺杂硅靶
• 金属钽粉, 溅射靶材,蒸发材料
• 合金溅射靶材
• 镍钒合金靶材
• 镍铬合金
• 钨钛合金
• 钛铝合金
• 氧化物靶材
• 氧化银 Ag2O 靶材
• 氧化镍靶材
• 氧化钒V2O5靶材,蒸发料
• 氧化锌ZnO靶材
• 二氧化锆ZrO2溅射靶材,蒸发材料
• 三氧化二钛Ti2O3靶材
• 二氧化钛TiO2溅射靶材，蒸发镀膜材料
• 一氧化钛TiO溅射靶材，蒸发镀膜材料
• 氧化锡SnO, SnO2溅射靶材
• 二氧化硅SiO2靶材
• 一氧化硅SiO靶材
• 三氧化钼MoO3靶材
• 四氧化铁Fe3O4靶材
• 氧化亚铜Cu2O靶材
• 四氧化三钴Co3O4靶材
• 晶体,陶瓷氧化铝溅射靶材,蒸发镀膜材料
• 五氧化二铌靶材
• 高纯氧化铪粉,靶材,蒸发材料
• 五氧化二钽Ta2O5粉,靶材,蒸发镀膜材料
• 氧化钨(WO3)靶材
• 氧化铟In2O3溅射靶材，蒸发镀膜材料
• 硅化物靶材
• 二硅化锆 ZrSi2陶瓷靶材
• 硅化钨WSi2靶材
• 硅化钛TiSi2靶材
• 硅化铬CrSi2靶材
• 硅化钽Ta3Si5靶材
• 硫化物溅射靶材
• 硫化锡 SnS, SnS2粉，溅射靶材，蒸发镀膜材料
• 硫化钨WS2靶材
• 硫化锌ZnS靶材
• 二硫化钼MoS2靶材
• 氟化物靶材
• 氟化铝AlF3溅射靶材
• 氟化镁MgF2靶材
• 氮化物靶材
• 氮化锆ZrN靶材
• 氮化硅Si3N4靶材
• 氮化铪HfN陶瓷靶材
• 氮化铜Cu3N靶材
• 氮化硼,BN,溅射靶材
• 氮化铝AlN靶材
• 氮化钽TaN粉,溅射靶材
• 氮化钛TiN溅射靶材
• 硼化物溅射靶材
• 硼化钛TiB2靶材
• 硼化钽TaB2靶材
• 硼化钨溅射靶材WB
• 碳化物溅射靶材
• 碳化锆ZrC靶材
• 碳化钛
• 碳化硅SiC靶材
• 碳化钒VC溅射靶材，粉，蒸发镀膜材料
• 碳化铌NbC靶材
• 碳化二钼Mo2C靶材
• 高纯碳化铪HfC
• 碳化硼B4C靶材
• 碳化钽TaC粉,靶材
• 碳化钨(WC)靶材
• 混合物靶材
• 磷酸锂Li3PO4
• 钛酸钡BaTiO3溅射靶材
• 三氧化二铬Cr2O3靶材
• 高纯氧化铋
• 氧化锌铝 AZO靶材
• 氧化钨掺锂(WO3-Li)靶材
• 氧化铟锡ITO靶材
• 硒化镉 CdSe，溅射靶材，粉，蒸发镀膜材料
• 硒化镉 CdSe，溅射靶材，粉，蒸发镀膜材料

• 蒸发镀膜材料
• 硫化锡 SnS, SnS2粉，溅射靶材，蒸发镀膜材料
• 硫化锡 SnS, SnS2粉，溅射靶材，蒸发镀膜材料
• 三氧化钼MoO3
• 金属钨W蒸发材料
• 五氧化三钛Ti3O5蒸发镀膜材料
• 氧化镁 MgO蒸发镀膜材料
• 氧化铝Al2O3晶体光学镀膜材料
• 氟化钙CaF2晶体蒸发料
• 氟化钡BaF2晶体
• 氟化锂LiF晶体光学材料
• 氟化镁 MgF2,溅射靶材，光学镀膜材料

• 化合物半导体材料
• 硒化镉 CdSe，溅射靶材，粉，蒸发镀膜材料
• 硒化铅PbSe靶材
• 碲化镉 CdTe溅射靶材

• 高纯二氧化碲TeO2粉
• 氮化铌NbN靶材