高纯氧化铪粉,靶材,蒸发材料
型号︰
HfO2
原产地︰
中国
单价︰
CNY ¥ 2000 / 片
最少订量︰
1 片
产品描述
中文名称:氧化铪 HfO2英文名称:Hafnium oxide
CAS: 12055-23-1
惠州天亿可以提供的关于氧化铪HfO2的产品有:
高纯氧化铪HfO2粉, 纯度:99.95%,99.99%, 粒度<10微米,-325目或订制
高纯氧化铪HfO2溅射靶材, 纯度:99.95%,99.99%, 尺寸:直径 355.6mm (14英寸) ,长度 (250mm) ,宽度 (200mm) ,厚度 (20mm), 形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆管，台阶圆片，台阶矩形，其他客户订制
高纯氧化铪HfO2蒸发镀膜材料, 纯度:99.95%,99.99%, 规格: 8 x 6, 10 x 8, 1-10mm或定制.
薄膜特性：透光范围～220～12000nm；折射率（250nm）～2.15 （500nm）～2
蒸发条件：用电子枪，氧分压～1～2×10-2Pa。蒸发温度～2600～2800℃，基片温度～250℃，蒸发速率2nm/s
二氧化铪(HfO₂)是一种具有宽带隙和高介电常数的陶瓷材料，近来在工业界特别是微电子领域被引起极度的关注，由于它最可能替代目前硅基集成电路的核心器件金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)的栅极绝缘层二氧化硅(SiO₂)，以解决目前MOSFET中传统SiO₂/Si结构的发展的尺寸极限问题.
白色或灰色粉末。不溶于水、盐酸和硝酸和其他一般无机酸，可溶于浓硫酸和氟氢酸. 当加热到高温时铪与氧直接化合生成氧化铪, 也可由硫酸铪、氯氧化铪等化合物热分解或水解制取。在氢氟酸中缓慢溶解生成氟铪酸盐。与热浓硫酸或硫酸氢盐作用生成硫酸铪。与碳在氯气存在下混合加热得到四氯化铪。与氟硅酸钾作用生成氟铪酸钾。与碳在1500℃以上反应得碳化铪（HfC）。是一种具有宽带隙（～6eV）和高介电常数的陶瓷材料。
二氧化铪(HfO₂)有四方、单斜和三方三种晶形。单斜晶系的二氧化铪在1475～1600℃的足量氧气氛中转化为四方晶系, 为生产金属铪和铪合金的原料。
密度：9.68g/cm3, 熔点：2850℃, 摩尔质量：210.49 g/mol
蒸发压力：在2678℃时1Pa；在2875℃时10Pa,线膨胀系数：5.6×10-6/K.
用途： 应用领域:UV增透膜，干涉膜, 用作耐火耐熔材料、抗放射性涂料和催化剂及光谱分析。
产品说明︰
粉末, 靶材, 蒸发材料
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