二硅化锆 ZrSi2陶瓷靶材

 二硅化锆, Zirconium disilicide,ZrSi2溅射靶材

CAS号：12039-90-6

我公司提供的二硅化锆ZrSi2 , 产品规格如下:

高纯二硅化锆ZrSi2粉, 纯度: 99.5% (含Hf), 粉末粒度: -325目, <10um, 可以定制.

高纯二硅化锆ZrSi2溅射靶材, 纯度: 99.5% (含Hf), 尺寸:直径 355.6mm (14英寸) ,长度 (250mm) ,宽度 (200mm) ,厚度 (20mm), 形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆棒，台阶圆片，台阶矩形，其他客户订制

高纯二硅化锆ZrSi2蒸发镀膜材料, 纯度: 99.5% (含Hf), 规格1-10mm, 6 x 6, 10 x 8,18 x10等或定制, 形状: 不规则颗粒,圆粒

二硅化锆ZrSi2, 分子量 147.39, 密度 4.88, 熔点：1620 oC (1790oC), 晶格常数：a=0.372nm，b=1.476nm，c=0.367nm。显微硬度（kg/mm2）：1063, 生成热（kJ/mol）：62.8. 灰色正方结晶粉末, 常温常压下稳定. 难熔金属硅化物. 电阻率低(约为10-7Ω•m)，硬度高。制备方法主要是用淀积金属与硅的混合物烧结而成。淀积法主要有：蒸发、溅射、电镀、化学气相淀积等。
主要可用作精细陶瓷原料粉 (硅化物基金属陶瓷,
用于生产半导体薄膜生产用坩埚.
多在超大规模集成电路中使用，如用作金属栅、肖特基接触、欧姆接触等