硅化钛TiSi2靶材

硅化钛（TiSi2)陶瓷靶材

硅化物陶瓷溅射靶材

Chromium Silicide , CrSi2 target                    Cobalt Silicide , Co3Si target       

Hafnium Silicide , HfSi2 target                      Molybdenum silicide, MoSi2, Mo5Si3 target       

Nickel Silicide , NiSi target                         Niobium Silicide , Nb5Si3, NbSi2 target       

Tantalum Silicide , Ta5Si3, TaSi2 target                Titanium silicide, Ti5Si3, TiSi2 target       

Tungsten Silicide , WSi2 target                       Vanadium silicide , V3Si, VSi2 target       

Zirconium Silicide , ZrSi2 target      

我公司的真空热压、热等静压、冷等静压等工艺下生产的各种高纯靶材材料, 通过精密的机加工, 具有高纯度、高密度、 表面光滑平整 (RA16/32/64)、 结晶粒度均匀的优势。

靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆棒，台阶圆片，台阶矩形，三角形，管状靶，套靶等或按客户要求订做，可根据客户提供的图纸要求加工. 并可以为客户提供部分靶材的邦定服务.
参考尺寸:直径 ≦355.6mm (14英寸) ,长度≦1000mm ,宽度≦200mm ,厚度≦20mm

产品说明︰ 溅射镀膜，蒸发材料,用作陶瓷材料、高电阻薄膜材料。