氧化铟In2O3溅射靶材，蒸发镀膜材料

氧化铟，In2O3 CAS: 1312-43-2 

惠州天亿可以提供的关于氧化铟 In2O3的产品有:

氧化铟 In2O3粉, 纯度:99.99%, 粒度<10微米,-325目或订制

氧化铟 In2O3溅射靶材, 纯度:99.99%, 尺寸:直径 355.6mm (14英寸) ,长度 (250mm) ,宽度 (200mm) ,厚度 (20mm), 形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆管，台阶圆片，台阶矩形，其他客户订制

氧化铟 In2O3蒸发镀膜材料, 纯度:99.99%, 规格: 8 x 6, 10 x 8, 1-10mm或定制. 

氧化铟掺杂溅射靶材, 纯度:99.99%, In2O3-SnO2氧化铟锡ITO，In2O3-Ga2O3氧化铟-氧化镓 IGO，In2O3-ZnO-Ga2O3 氧化铟-氧化锌-氧化镓 IZGO, ZnO-In2O3氧化锌掺氧化铟 ZIO等等

三氧化二铟In2O3, 外观：浅黄色粉末, 分子量：277.6342， 熔点1910℃，相对密度7.179g/cm3，不溶于水、氢氧化钠。无定形易溶于酸，晶形则不溶。700～800℃时易为氢、碳、铅等还原生成金属铟和易挥发的氧化二铟。将金属铟在空气中燃烧或由氢氧化物、硝酸盐或碳酸盐加热制得。

用途：

电阻式触摸屏中经常使用的原材料，主要用于荧光屏、玻璃、陶瓷、化学试剂等。

另外，广泛应用于有色玻璃、陶瓷、碱锰电池代汞缓蚀刘、化学试剂等传统领域。近年来大量应用于光电行业等高新技术领域和军事领域，特别适用于加工为铟锡氧化物(ITO)靶材，制造透明电极和透明热反射体材料，用于生产平面液晶显示器和除雾冰器。