硅化鈦TiSi2靶材

硅化鈦（TiSi2)陶瓷靶材

硅化物陶瓷濺射靶材

Chromium Silicide , CrSi2 target                    Cobalt Silicide , Co3Si target       

Hafnium Silicide , HfSi2 target                      Molybdenum silicide, MoSi2, Mo5Si3 target       

Nickel Silicide , NiSi target                         Niobium Silicide , Nb5Si3, NbSi2 target       

Tantalum Silicide , Ta5Si3, TaSi2 target                Titanium silicide, Ti5Si3, TiSi2 target       

Tungsten Silicide , WSi2 target                       Vanadium silicide , V3Si, VSi2 target       

Zirconium Silicide , ZrSi2 target      

我公司的真空熱壓、熱等靜壓、冷等靜壓等工藝下生產的各種高純靶材材料, 通過精密的機加工, 具有高純度、高密度、 表面光滑平整 (RA16/32/64)、 結晶粒度均勻的優勢。

靶材形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環，圓棒，臺階圓片，臺階矩形，三角形，管狀靶，套靶等或按客戶要求訂做，可根據客戶提供的圖紙要求加工. 並可以為客戶提供部分靶材的邦定服務.
參考尺寸:直徑 ≦355.6mm (14英吋) ,長度≦1000mm ,寬度≦200mm ,厚度≦20mm

產品說明︰ 濺射鍍膜，蒸發材料,用作陶瓷材料、高電阻薄膜材料。