二硅化鋯 ZrSi2陶瓷靶材

 二硅化鋯, Zirconium disilicide,ZrSi2濺射靶材

CAS號：12039-90-6

我公司提供的二硅化鋯ZrSi2 , 產品規格如下:

高純二硅化鋯ZrSi2粉, 純度: 99.5% (含Hf), 粉末粒度: -325目, <10um, 可以定製.

高純二硅化鋯ZrSi2濺射靶材, 純度: 99.5% (含Hf), 尺寸:直徑 355.6mm (14英吋) ,長度 (250mm) ,寬度 (200mm) ,厚度 (20mm), 形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環，圓棒，臺階圓片，臺階矩形，其他客戶訂製

高純二硅化鋯ZrSi2蒸發鍍膜材料, 純度: 99.5% (含Hf), 規格1-10mm, 6 x 6, 10 x 8,18 x10等或定製, 形狀: 不規則顆粒,圓粒

二硅化鋯ZrSi2, 分子量 147.39, 密度 4.88, 熔點：1620 oC (1790oC), 晶格常數：a=0.372nm，b=1.476nm，c=0.367nm。顯微硬度（kg/mm2）：1063, 生成熱（kJ/mol）：62.8. 灰色正方結晶粉末, 常溫常壓下穩定. 難熔金屬硅化物. 電阻率低(約為10-7Ω•m)，硬度高。制備方法主要是用澱積金屬與硅的混合物燒結而成。澱積法主要有：蒸發、濺射、電鍍、化學氣相澱積等。
主要可用作精細陶瓷原料粉 (硅化物基金屬陶瓷,
用於生產半導體薄膜生產用坩堝.
多在超大規模集成電路中使用，如用作金屬柵、肖特基接觸、歐姆接觸等