硼化鈦TiB2靶材

硼化鈦 TiB2濺射靶材，蒸發鍍膜材料，二硼化鈦粉

我公司的真空熱壓、熱等靜壓、冷等靜壓等工藝下生產的各種高純靶材材料, 通過精密的機加工, 具有高純度、高密度、 表面光滑平整 (RA16/32/64)、 結晶粒度均勻的優勢。

靶材形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環，圓棒，臺階圓片，臺階矩形，三角形，管狀靶，套靶等或按客戶要求訂做，可根據客戶提供的圖紙要求加工. 並可以為客戶提供部分靶材的邦定服務.
參考尺寸:直徑 ≦355.6mm (14英吋) ,長度≦1000mm ,寬度≦200mm ,厚度≦20mm

硼化物陶瓷濺射靶材

Chromium Boride , Cr2B, CrB2, CrB, Cr5B3 target         Hafnium Boride , HfB2 target       

Iron Boride , FeB target                               Lanthanum Boride , LaB6 target       

Molybdenum Boride , Mo2B, Mo2B5 target               Neodymium Boride , NdB, NdB2 target       

Tantalum Boride , TaB, TaB2 target                    Titanium Boride, TiB2 target       

Tungsten Boride , WB, WB2, W2B5 target              Vanadium Boride , VB, VB2 target       

Zirconium Boride , ZrB2 target